抢夺EUV光刻机,晶圆厂军备竞赛开打

2019-10-22
14:00:09
来源: 半导体行业观察



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内容综合自「

联合晚报

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日前,台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入EUV微影技术且成功量产入市后,南韩媒体报导,三星向半导体设备大厂艾司摩尔(ASML)下订15台EUV设备,另外,英特尔、美光、海力士也规划采用EUV技术,僧多粥少,全球半导体业掀起抢EUV(极紫外光)设备大战。


台积电日前宣布,领先业界导入EUV微影技术之7纳米强效版制程已协助客户产品大量进入市场,且2020年上半年量产5纳米也将导入EUV制程。


根据南韩媒体报导,为达成2030年成为全球第一半导体大厂的目标,并超越晶圆代工龙头台积电,抢占未来二到三年的5G商用化所带来的半导体市场需求,三星已向全球微影曝光设备大厂ASML订购15台先进EUV设备。


另外,英特尔EUV计划的负责人Britt Turkot年中表示,EUV技术已经准备好,并且投入大量的技术开发。


记忆体大厂美光、海力士也计划导入EUV技术,然而目前全球提供EUV设备仅ASML一家,业界预估ASML一年仅能生产约30台EUV设备,在各大厂相继投入之下,形成设备机台一机难求,排队等设备景象。


由于EUV极短波长13.5纳米之强力光线的技术,能够更完美地解析先进制程的设计,减少芯片生产步骤及光罩层数,在5G即将进入商转,高速高频特性,对芯片微缩、低功耗要求高,成为延续摩尔定律重要技术。


不过,要驾驭此复杂且昂贵系统来制造大批晶片却是一件难事,三星虽最早宣布7纳米制程导入EUV,但先前即传出生产芯片良率及产量不足,台积电表示,为何7纳米一开始未导入EUV,正因新技术导入制程需要经历一段学习曲线,台积电在7纳米强效版成功学习经验,未来可顺利导入5纳米制程。

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