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要超车台积电,三星宣布采用EUV技术7纳米制程完成验证

Byadmin

Oct 25, 2021
2018-06-19
14:01:11
来源: 老杳吧

晶圆代工市场中,台积电与三星的竞争始终是大家所关心的戏码。其中,三星虽然有高通这样的 VIP 客户,但在 7 纳米制程节点上,高通预计会转投回台积电的情况下,三星要想受到更多的客户的青睐,只能从工艺技术上着手了。这也是三星为什么跳过非 EUV 技术的 7 纳米制程,直接上 7 纳米 LPP EUV 制程技术的原因。如今,三星终于公布了他的 7 纳米 LPP 制程已经完成了新斯科技(Synopsys)的物理认证,意味着 7 纳米 EUV 制程将可以进行全球量产了。
事实上,目前在全球的前几大晶圆代工厂商中,英特尔的 10 纳米制程还没搞定,因此距离 7 纳米制程就更遥远了。而台积电的 7 纳米制程量产比较顺利,会有苹果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客户陆续流片、量产。不过。台积电的第一代 7 纳米制程,使用的还是传统的多重曝光技术,一直必须到 2019 年得第 2 代 7 纳米制程才会使用 EUV 光刻技术。
格罗方德方面也走台积电相似的路线,预计 2018 年量产的 7 纳米 DUV 制程还是传统的深紫外光刻技术。对此,号称频率可达 5GHz 的 AMD 7 纳米 Zen 2处理器就会使用格罗方德的 7 纳米制程技术,2019 年初问世,2020年 的再下一代才是 7 纳米 EUV 制程技术。
相对于其他竞争对手,三星在 EUV 技术上是最积极的。也就是三星直接跳过了第一代非 EUV 光刻的 7 纳米制程,直接使用加入 EUV 技术的 7 纳米 LPP 制程,并且预定在 2018 年下半年正式量产。日前,新斯科技与三星已经联合宣布,三星使用的 7 纳米 LPP 制程技术完成了 IC 验证器的认证工作了。
在三星完成这次的认证之后,三星的 7 纳米 LPP 制程就可以立即提供认证的技术资料,包括 DRC 设计规则检查、LVS 布局与原理图、金属填充技术档等等给予相关客户,而这也意味着三星的 7 纳米 LPP 制程正式进入可以量产的阶段。
目前在 EUV 光刻技术竞争激烈下,各家大厂抢 EUV 光刻机也成为重要经营项目之一。根据之前的消息,ASML 的 EUV 光刻机中,台积电订购了大约 10 台,三星订购了大约 6 台,英特尔订购了 3 台,而格罗方德的EUV订单数量不详,中芯国际也订购了 1 台 EUV 光刻机,将用于 7 纳米制程技术研究上,预计 2019 年初交货。而就在各家厂商手中都握有 EUV 光刻机的情况下,似乎未来在7纳米节点上要胜出,就必须对比大家的最后的技术与管理能力了。

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