2019年全球光刻机市场分析

2020-02-17
14:00:21
来源: 半导体行业观察



根据芯思想研究院(ChipInsights)的数据表明,2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台,较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台;半导体封装、面板、LED用光刻机出货约190台。







一、前道用光刻机情况





2019年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货359台,较2018年的374台减少15台,跌幅为4%。


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从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货154台。其中ASML出货130台,占有84%的市场,较2018年下降6个百分点。


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EUV方面还是ASML独占鳌头,市占率100%;ArFi方面ASML市占率高达88%;

ArF方面ASML占有63%的市场份额;KrF方面ASML也是占据63%的市场份额;在i

线

方面ASML也拿下了该拿的份额。




从总营收来看,2019年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收954亿元人民币,较2018年小幅增长。从营收占比来看,ASML占据74%的份额。虽然2019年光刻机出货数量有所下滑,但高端机台EUV、ArFi、ArF的出货量增加,也使得总体营收微幅增长。




ASML







2019年ASML光刻机营收达704亿元人民币,较2018年成长9%,增幅明显收窄(2018年较2017年成长36%)。




2019年ASML共出货229台光刻机,较2018年224年增加5台,增长2.23%。其中EUV光刻机出货26台,较2018年增加8台;ArFi光刻机出货82台,较2018年减少4台;ArF光刻机出货22台,较2018年增加6台;KrF光刻机出货65台,较2018年减少13台;i-line光刻机出货34台,较2018年增加8台。




2019年ASML的EUV光刻机营收达217亿元人民币,较2018年增加70亿元人民币。2019年单台EUV平均售价超过8亿元人民币,较2018年单台平均售价增长3%。




值得注意的是,2019年第三季度,ASML开始出货NXE:3400C,这是最新型的EUV光刻机,吞吐量达175wph(300毫米晶圆)。NXE:3400C目前累计出货9台,估算单价接近10亿元人民币。




2019年中国FAB建设高潮,多个FAB搬入设备,其中搬入ASML光刻机的有中芯南方基地、华虹无锡FAB7、粤芯半导体等。





Nikon







2019年,Nikon光刻机业务营收约156亿元人民币,较2018年下滑5.4%。




2019年,Nikon半导体用光刻机出货46台,较2018年增加10台。其中ArFi光刻机出货11台,较2018年度增加6台;ArF光刻机出货13台,较2017年度增加4台;KrF光刻机出货4台,较2017年度减少1台;i-line光刻机出货18台,较2017年度增加1台。




2019年度,Nikon半导体用光刻机出货46台中,其中全新机台出货28台,翻新机台出货18台。





Canon







2019年,Canon光刻机营收约为94亿元人民币,较2018年下降21.3%。




2019年,Canon半导体用光刻机出货达84台,较2018年出货量114台,减少30台,下滑26.3%;全部i-line、KrF两个低端机台出货。




2019年12月,Canon宣布推出FPA-3030iWa型光刻机,预计2020年2月下旬发售。该机型采用的投影透镜具有52毫米x52毫米的广角,NA可从0.16到0.24范围内可调。新设备可以在2英寸到8英寸之间自由选择晶圆尺寸的处理系统,方便支持各种化合物半导体晶圆,可运用在预计未来需求增长的汽车功率器件、5G相关的通信器件、IoT相关器件(如MEMS和传感器等)的制造工艺中。






二、面板、封装、LED


用光刻机情况






Nikon





2019年,Nikon面板(FPD)用光刻机出货40台,较2018年减少33台。2019年,Nikon面板用光刻机虽然出货减少33台,但我们也看到其10.5代线用光刻机出货量增长不错,从2018年出货14台增长到2019年的22台,爆增60%。





Canon







2019年,Canon面板(FPD)用光刻机出货50台,较2018年出货量69台,减少19台,下滑27.5%。





上海微电子SMEE







上海微电子装备(集团)股份有限公司光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域,2019年出货预估在50+台,和2018年基本持平,主要集中在先进封装、LED方面,在FPD领域也有出货。





SUSS







德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED,2019年光刻机收入约7亿元人民币,和2018年几乎持平。





VEECO










2017年Veeco收购Ultratech,增加了光刻市场的收入,主要是来自先进封装和LED领域,销售客户包括先进封装、晶圆制造、LED生产商。2019年公司来自先进封装和LED用光刻机的营收约为3亿元人民币,预估销售台数在20台以内。







EVG










公司的光刻设备主要应用于先进封装、面板等行业,当然公司也出售对准仪等。






三、


EUV进展







从2018年以来,公司一直在加速EUV技术导入量产;二是实验以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系统能将EUV光源投射到较大角度的晶圆,从而提高分辨率,并且实现更小的特征尺寸。




2019年第三季度,ASML已经出货EUV新机型NXE:3400C,每小时吞吐量为175片,完全满足7纳米和5纳米工艺。




预估2021年将推出0.55 NA的新机型EXE:5000样机,可用于2纳米生产,按照之前的情况推测,真正量产机型出货可能要等到2024年。当然0.55 NA镜头的研发进度也会影响新机型的出货时间。




2019年ASML全年出货26台EUV光刻机,还是因为产能有限所致。




DRAM公司将在2020年底搬入EUV光刻机,表示着EUV将进入存储器产线,这将对


ASM


L


的未来产量提出更多挑战。


*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


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