上海新阳购入ASML光刻机 用于研发193nm Arf干法光刻胶

继中芯国际续单ASML光刻机后,3月8日,上海新阳(300236)公告称,经各方积极协商、运作,ASML-1400光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地,后续将进行安装调试等相关工作。

上海新阳表示,公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付,对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,加快落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

上海新阳购入ASML光刻机 用于研发193nm Arf干法光刻胶

光刻胶究竟是什么?为什么这么重要?事实上,芯片制造中难度最大、耗时最久的工艺就是光刻,其成本超过整个芯片生产成本的30%。而在光刻环节中,光刻胶的作用至关重要。资料显示,光刻胶是一种对光敏感的混合液体,其主要作用是通过光化学反应,基于曝光、显影等光刻工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩(掩模版)转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度,光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀,阻止离子影响。

根据中国产业信息网与国元证券研究中心联合发布的《全球光刻胶生产企业市场份额》数据显示,目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等,市场集中度非常高,所占市场份额超过85%。尤其是半导体光刻胶市场,70%的市场份额基本被日本厂商所占据。相较之下,由于起步较晚,缺乏技术、人才资源,国内半导体光刻胶厂商的市场份额仅占2%左右,且主要都集中于G线(436nm)、I线(365nm)等低端品种,ArF光刻胶等高端种类几乎完全依赖进口。

业内分析人士认为,上海新阳立足电子电镀、电子清晰、电子光刻三大核心技术,是国内国为一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业。在引进ASML-1400后,上海新阳有可能率先在高端光刻胶方面取得实质性成果。以上海新阳的光刻胶项目进度来看,预计ArF光刻胶于2022年便可实少量销售,2023年则能大批量产,步入广泛的商用阶段。

要知道,ArF光刻胶对28nm到7nm工艺的芯片生产具有关键作用。截至目前,我国最大的芯片代工商——中芯国际最先进的芯片制程也才达到了14nm。业内人士评论称,光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料,决定了半导体图形工艺的精密程度和良率,成为了其中最受瞩目的环节之一。未来,在高端ArF光刻胶领域研发和量产持续突破,将直接作用于中国芯的制造进程,为集成电路产业的快速发展提供驱动力。

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